2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 12:15 D8 (D215)

12:00 〜 12:15

[18a-D8-12] High-k/SiO2界面のダイポール層形成メカニズムの考察 -多重極子誘起酸素移動モデルの提案-

志村昂亮1,栗山亮1,橋口誠広1,高橋隆介1,小椋厚志3,5,佐藤真一4,5,渡邉孝信1,2,5 (早大理工1,早大ナノ機構2,明大理工3,兵庫県立大4,JST-CREST5)

キーワード:ダイポール