[18p-F2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[18p-F2-12] 超並列電子線描画装置用アクテイブマトリクスnc-Si面電子源の開発（Ⅳ）

^○池上尚克¹，小島明^1,3，吉田孝²，西野仁²，吉田慎哉²，宮口裕²，室山真徳²，大井英之³，越田信義¹，江刺正喜² (東京農工大¹，東北大²，クレステック³)

キーワード：EB Lithography,電子エミッタ,ナノ結晶シリコン