[19p-D9-1~18] 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション

△ [19p-D9-5] 表面増強ラマン分光法による歪SiGe薄膜のLO/TOフォノン励起

^○山本章太郎¹，小瀬村大亮¹，シティノルヒダヤーモハマドユソフ¹，木嶋隆浩¹，今井亮佑¹，臼田宏治²，小椋厚志¹ (明治大理工¹，産総研GNC²)

キーワード：SiGe,表面増強ラマン分光法,歪