10:00 〜 10:15
▼ [20a-F10-5] Electrical activation and crystallinity recovery of P-implanted Ge
キーワード:ゲルマニウム,implantation,phosphorus
一般セッション(口頭講演)
13.半導体A(シリコン) » 13.5 Si-English Session
2014年3月20日(木) 09:00 〜 12:30 F10 (F406)
10:00 〜 10:15
キーワード:ゲルマニウム,implantation,phosphorus