2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20p-E14-1~4] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月20日(木) 13:15 〜 14:15 E14 (E302)

13:45 〜 14:00

[20p-E14-3] マイクロ流路を用いた流れ環境下における銅の溶解観察 ―溶存酸素量の溶解挙動への影響―

森洋輔1,鈴木崇弘1,高東智佳子2,早瀬仁則1 (東理大1,荏原製作所2)

キーワード:銅,腐食