一般セッション(口頭講演)
[13a-4C-1~12] 13.3 絶縁膜技術
2015年9月13日(日) 09:00 〜 12:15 4C (432)
座長:渡邉 孝信(早大),右田 真司(産総研)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(D)高本 聡1、山崎 隆浩2,3、大野 隆央2,3,4、金田 千穂子3,5、泉 聡志1、酒井 信介1 (1.東大工、2.物材機構、3.MARCEED、4.東大生産研、5.富士通研究所)
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09:15 〜 09:30
〇遠藤 広大1、雷 一鳴1、角嶋 邦之1、若林 整1、筒井 一生1、岩井 洋1 (1.東工大総理工)
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09:30 〜 09:45
〇藤川 雄太1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
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09:45 〜 10:00
〇(M2)田中 伸1、S. R. A. Ahmed2、加藤 海平3、福山 耕作3、尾﨑 航佑3、小林 清輝1,2,3 (1.東海大院工、2.東海大院総、3.東海大工)
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10:00 〜 10:15
〇(M1)和泉 慶彦1、福井 僚1、中村 嘉基1、若林 整1、筒井 一生1、岩井 洋1、角嶋 邦之1 (1.東工大総理工)
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10:15 〜 10:30
〇平岩 篤1、齊藤 達也2、松村 大輔2、川原田 洋1,2 (1.早大ナノ・ライフ、2.早大理工)
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休憩 （10:30 〜 10:45）
10:45 〜 11:00
〇功刀 遼太1、志村 昴亮1、渡邉 孝信1,2 (1.早大理工、2.早大ナノ機構)
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11:00 〜 11:15
〇杉野 優介1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
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11:15 〜 11:30
〇(D)Xiuyan Li1, Takeaki Yajima1, Tomonori Nishimura1, Akira Toriumi1 (1.Univ. of Tokyo)
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11:30 〜 11:45
〇井野 恒洋1、高石 理一郎1、中崎 靖1、藤井 章輔1、松下 大介1 (1.東芝)
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11:45 〜 12:00
〇井野 恒洋1、中崎 靖1、藤井 章輔1、松下 大介1 (1.東芝)
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12:00 〜 12:15
〇上牟田 雄一1、藤井 章輔1、高石 理一郎1、井野 恒洋1、中崎 靖1、齋藤 真澄1、小山 正人1 (1.東芝研開セ)
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