2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-2R-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年9月16日(水) 09:00 〜 12:00 2R (231-2)

座長:末益 崇(筑波大)

09:45 〜 10:00

[16a-2R-4] イオン散乱によるβ-FeSi2/Siの酸化挙動の評価

〇前田 佳均1,2、野口 雄也1、寺井 慶和1、鳴海 一雅2、境 誠司2 (1.九工大院情報工、2.原子力機構)

キーワード:シリサイド半導体、鉄シリサイド、発光

我々は,バンドオフセットの小さなβ/Siナノ混合相の致命的欠点を克服すべく,室温でも電子・正孔閉じ込めが十分期待できるβ/SiO2ナノ混合相を考案し,Siの選択酸化を利用してβ/Siからβ/SiO2ナノ混合相が直接作製できることを示した.さらにβ/SiO2からは室温付近まで発光が観察できることを示した.本研究では,イオン散乱法を用いてβ/Siからβ/SiO2ナノ混合相に至る酸化挙動について検討した.