一般セッション(ポスター講演)

[13p-P8-1~5] 7.4 量子ビーム界面構造計測

2015年3月13日(金) 16:30 〜 18:30 P8 (総合体育館)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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16:30 〜 18:30

[13p-P8-1] 高圧水蒸気熱処理によるメソ多孔体薄膜の膜質改善

〇田尻恭之¹、関将吾¹、古賀玲奈¹、香野淳¹ (1.福岡大理)

16:30 〜 18:30

[13p-P8-2] 硬X線光電子分光測定における電子・イオン同時照射を用いた帯電中和

〇吉木昌彦¹、細井慎²、尾角英毅³、稲葉雅之⁴、久保優吾⁵、林利彦⁶、野口真一⁷、磯村典武⁸、川村朋晃⁹、松本匡史¹⁰、黒岡和巳¹¹、上田和浩¹²、野村健二¹³、清井明¹⁴、梅本慎太郎¹⁵ (1.東芝, 2.ソニー, 3.川崎重工, 4.神戸製鋼, 5.住友電工, 6.関西電力, 7.電中研, 8.豊田中研, 9.日亜, 10.日産, 11.パナソニック, 12.日立, 13.富士通, 14.三菱電機, 15.スプリングエイトサービス)

16:30 〜 18:30

[13p-P8-3] 金薄膜／希硫酸水溶液界面電気二重層の中性子反射率測定

〇水沢まり^1,²、桜井健次²、武田全康³、山﨑大³、宮田登¹ (1.CROSS 東海, 2.物材機構, 3.原子力機構、J-PARCセンター)

16:30 〜 18:30

[13p-P8-4] Ｘ線反射率法によるデルタ層を有する多層膜構造の評価

〇東康史¹、黒河明¹ (1.産総研計測標準)

16:30 〜 18:30

[13p-P8-5] Ｘ線反射率による多層膜解析の改良

〇藤居義和¹ (1.神戸大)

一般セッション(口頭講演)

[14a-A16-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A16 (6A-206)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:00 〜 09:15

△ [14a-A16-1] シード型自由電子レーザーを用いたGdFeCoのM殻共鳴磁気光学効果による超高速磁化反転機構の研究

〇(D)山本真吾^1,²、田口宗孝³、染谷隆史^1,²、久保田雄也^1,²、伊藤俊^1,²、和達大樹^1,²、藤澤正美²、Capotondi Flavio⁴、Pedersoli Emanuele⁴、Manfredda Michele⁴、Casolari Francesco⁴、Kiskinova Maya⁴、藤井純⁵、Moras Paolo⁵、中村哲也^2,⁶、加藤剛志⁷、岩田聡⁸、辛埴²、松田巌^1,² (1.東大理, 2.物性研, 3.奈良先端大, 4.FERMI, 5.ELETTRA, 6.JASRI, 7.名古屋大工, 8.名古屋大エコトピア科学研究所)

09:15 〜 09:30

[14a-A16-2] 時間分解共鳴軟X線散乱で見たLa_1/3Sr_2/3FeO₃薄膜における磁気秩序の超高速融解

津山智之¹、伊藤俊¹、Pontius Niko²、Schussler-Langeheine Christian²、松田巌¹、蓑原誠人³、組頭広志³、山崎裕一^4,⁵、中尾裕則³、村上洋一³、〇和達大樹¹ (1.東大物性研, 2.HZB BESSYII, 3.KEK-PF, 4.東大工, 5.理研CEMS)

09:30 〜 09:45

[14a-A16-3] 水素吸蔵特性をもつAg-Rh合金ナノ粒子の価電子帯スペクトル観測

〇坂田修身¹、楊安麗¹、草田康平²、屋山巴³、吉川英樹¹、石元孝佳³、古山通久³、小林浩和²、北川宏² (1.物材機構, 2.京大, 3.九大)

09:45 〜 10:00

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown M_xNi_1-xO (M = Li, Mg)

〇(P)Rosantha Kumara¹, Anli Yang¹, Osami Sakata^1,², Ryosuke Yamauchi², Munetaka Taguchi³, Satoshi Ishimaru¹, Akifumi Matsuda², Mamoru Yoshimoto² (1.NIMS/SPring-8, 2.Tokyo Tech., 3.NAIST)

10:00 〜 10:15

[14a-A16-5] パルスレーザーメルティング法を用いたマンガン過飽和ドープシリコンの作製と結晶構造

〇香野淳¹、溝上諒¹、田尻恭之¹ (1.福岡大・理)

10:15 〜 10:30

[14a-A16-6] 化学溶液堆積法を用いたLa置換チタン酸ビスマス薄膜の作製における膜厚と結晶相の制御

〇香野淳¹、斉田浩一¹、田尻恭之¹ (1.福岡大理)

休憩（10:30 〜 10:45）

10:45 〜 11:00

[14a-A16-7] 一枚の位相型回折格子を用いたGIUSAXS実空間イメージング

〇矢代航¹、加藤宏祐²、池田進³、和田恭雄⁴、鈴木芳生⁵、竹内晃久⁵ (1.東北大多元研, 2.東北大院工, 3.東北大原子分子, 4.慶大理工, 5.JASRI)

11:00 〜 11:15

[14a-A16-8] ナノ物質の構造・元素分析に向けたX線支援非接触原子間力顕微鏡（XANAM）の開発

〇鈴木秀士¹、向井慎吾²、田旺帝³、野村昌治⁴、朝倉清高² (1.名大院工, 2.北大触媒セ, 3.ICU, 4.KEK-PF)

11:15 〜 11:30

[14a-A16-9] 放射光X線回折によるSiC熱分解表面のその場観察法の開発

〇(P)吉田雅洋^1,²、河邉文哉¹、久津間保徳¹、堂島大地¹、重政英史¹、大和田謙二²、稲見俊哉²、玉井尚登¹、大谷昇¹、金子忠昭¹、水木純一郎¹ (1.関学大理工, 2.原子力機構)

11:30 〜 11:45

[14a-A16-10] J-PARC/MLF BL17偏極中性子反射率計「写楽」の現状

〇宮田登¹、武田全康^2,³、山崎大³、阿久津和宏¹、水沢まり¹、笠井聡¹、野島建大²、久保田正人²、鈴木淳市¹、曽山和彦³ (1.総合科学研究機構東海事業センター, 2.原子力機構量子ビーム, 3.J-PARCセンター)

11:45 〜 12:00

[14a-A16-11] 中性子反射投影による埋もれた界面の可視化技術の検討

〇桜井健次^1,²、Jiang Jinxing^1,²、水沢まり^1,³、伊藤崇芳³、Li Dan^1,²、阿久津和宏³、宮田登³ (1.物材機構, 2.筑波大数理, 3.CROSS東海)

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7 ビーム応用 » 7.4 量子ビーム界面構造計測

[13p-P8-1~5] 7.4 量子ビーム界面構造計測

[13p-P8-1] 高圧水蒸気熱処理によるメソ多孔体薄膜の膜質改善

[13p-P8-2] 硬X線光電子分光測定における電子・イオン同時照射を用いた帯電中和

[13p-P8-3] 金薄膜／希硫酸水溶液界面電気二重層の中性子反射率測定

[13p-P8-4] Ｘ線反射率法によるデルタ層を有する多層膜構造の評価

[13p-P8-5] Ｘ線反射率による多層膜解析の改良

[14a-A16-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

△ [14a-A16-1] シード型自由電子レーザーを用いたGdFeCoのM殻共鳴磁気光学効果による超高速磁化反転機構の研究

[14a-A16-2] 時間分解共鳴軟X線散乱で見たLa_1/3Sr_2/3FeO₃薄膜における磁気秩序の超高速融解

[14a-A16-3] 水素吸蔵特性をもつAg-Rh合金ナノ粒子の価電子帯スペクトル観測

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown M_xNi_1-xO (M = Li, Mg)

[14a-A16-5] パルスレーザーメルティング法を用いたマンガン過飽和ドープシリコンの作製と結晶構造

[14a-A16-6] 化学溶液堆積法を用いたLa置換チタン酸ビスマス薄膜の作製における膜厚と結晶相の制御

[14a-A16-7] 一枚の位相型回折格子を用いたGIUSAXS実空間イメージング

[14a-A16-8] ナノ物質の構造・元素分析に向けたX線支援非接触原子間力顕微鏡（XANAM）の開発

[14a-A16-9] 放射光X線回折によるSiC熱分解表面のその場観察法の開発

[14a-A16-10] J-PARC/MLF BL17偏極中性子反射率計「写楽」の現状

[14a-A16-11] 中性子反射投影による埋もれた界面の可視化技術の検討

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7 ビーム応用 » 7.4 量子ビーム界面構造計測

[13p-P8-1~5] 7.4 量子ビーム界面構造計測

[14a-A16-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

△ [14a-A16-1] シード型自由電子レーザーを用いたGdFeCoのM殻共鳴磁気光学効果による超高速磁化反転機構の研究

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown MxNi1-xO (M = Li, Mg)

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▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown M_xNi_1-xO (M = Li, Mg)