2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[14a-A24-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:15 A24 (6A-217)

09:30 〜 09:45

[14a-A24-3] 低温アニールによるGeNx膜質改善

〇田中 佑治1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大工)

キーワード:ゲルマニウム、窒化膜