14:15 〜 14:30 △ [15p-C302-2] 高濃度SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマエッチングによるSiC基板の高能率加工 〇井上 裕貴1、田尻 光毅1、佐野 泰久1、松山 智至1、山内 和人1 (1.阪大院工)