14:30 〜 14:45 [16p-B10-4] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(7) 〇李 寧1、松尾 美弥1、羽深 等1、三ケ原 孝則2、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ技術研究組合、3.産総研)