[13a-B9-1~11] 8.4 Plasma etching

△ [13a-B9-7] Chemical Effects of Hydrogen Ion Irradiation on ITO Etching by Hydrocarbon Plasma

〇HU LI¹, Kazuhiro Karahashi¹, Masanaga Fukasawa², Kazunori Nagahata², Tetsuya Tatsumi², Satoshi Hamaguchi¹ (1.Osaka Univ., 2.Sony)

Keywords:transparent conducting oxides, etching, hydrogen

光電子バイスの微細化の発展とともに、ナノワイヤー電極が求められいる。光電子バイスの透明電極材料として金属酸化物のITO やZnO が広く使用されており、更なる微細化を実現するためにエッチング反応機構の解明が必要となる。CH_x系反応性プラズマを用いたエッチング反応において、エッチング促進効果はCHxイオンに含まれる水素原子の数に強く影響を受けることを明らかになった。今回の研究では、ビーム験とともに第一原理計算を行い、透明電極材料のエッチングにおける水素効果を定量的に評価した。