2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:15 B10 (展示控室1)

葉 文昌(島根大)、岡田 竜弥(琉球大)

11:30 〜 11:45

[15a-B10-11] 応力制御ができる高密度TiN薄膜の成膜技術

沼田 幸展1、平松 大典1、中野 賢明1 (1.株式会社 アルバック)

キーワード:スパッタ、応力制御

TiN膜は一般的なスパッタ成膜技術で高密度化を狙うと、強い圧縮応力を持つ薄膜になる。本報ではスパッタ成膜技術を用いて、高密度なTiN薄膜を引張応力から圧縮応力まで比較的に簡易な方法で調整できる成膜技術を報告する。