[15a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-B10-3] 中空構造SOI層を用いた低温転写における転写歩留まり向上とフレキシブル基板上での単結晶シリコンTFTとインバータ回路の作製

〇水上 隆達¹、竹島 真治¹、山下 知徳¹、東 清一郎¹ (1.広大院先端研)

キーワード：転写、薄膜トランジスタ、フレキシブルエレクトロニクス