[15p-B10-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15p-B10-11] 熱フィラメント法で生成した水素ラジカルによる大気圧下でのSiCl₄の分解

〇岡本 裕二^1,2、堤 大耀³、石垣 隆正³、Fatima Zohra Dahmani⁴、角谷 正友² (1.筑波大、2.物材機構、3.法政大、4.USTO-MB.)

キーワード：高純度シリコン、水素ラジカル、シーメンス法

シリコン太陽電池の原料である高純度シリコンは、SiO₂をSiHCl₃にし、水素ガス(H₂)で還元することで製造される(シーメンス法)。シーメンス法では、Si収率が低いことが課題であるが、我々は水素ラジカルを用いることで収率の向上を試みている。本研究では、熱フィラメント法を用いて水素ラジカルを発生させ、その濃度を測定した。また、クロロシラン系原料ガスと混合し還元することで、シリコンの生成も試みた。