[19a-S423-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19a-S423-5] ミニマルレーザ加熱熱酸化膜のウェハ面内均一性評価

〇佐藤 和重¹、遠江 栄希¹、千葉 貴史^1,3、寺田 昌男^1,3、池田 伸一^1,2、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ技術研究組合、2.産総研、3.坂口電熱)

キーワード：レーザ加熱、ミニマルファブ

ビーム形状の異なる2種類のレーザを重ね合わせて加熱できるミニマルレーザ加熱装置において、酸化膜厚の面内均一性を劣化させているウェハを支えるサセプターの構造について検討した。今回、サセプターのツメの本数：4→6本、形状：面→線に変え、面内均一性を改善できることを確認した。