[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-3] 光ナノインプリント法により作製したsub-100 nm樹脂ガイドのトレンチ内でのpolystyrene-block-poly(methyl methacrylate)の誘導自己組織化

〇(B)金原 徹尚¹、大窪 諒¹、廣芝 伸哉¹、中川 勝¹ (1.東北大多元研)

キーワード：誘導自己組織化

我々は､光ナノインプリントリソグラフィにより作製したSiの凹凸ガイドのトレンチ内でのブロック共重合体の誘導自己組織化 (DSA) について研究を進めている。京大の吉元らによる流体シミュレーション計算から､polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA) のミクロ相分離構造が凹凸ガイドの線幅や深さに影響を受けることが予想されている｡本研究では､光ナノインプリント法により作製した表面荒れの少ない樹脂パターンをDSAガイドとして線幅を45-100 nmの範囲で実験を行い､PS-b-PMMAのミクロ相分離構造の形状依存性を検討した｡