[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

△ [20p-S423-15] ラマン分光法及びイメージング法による低温多結晶シリコン薄膜の結晶性分布評価

〇横川 凌¹、高橋 和也²、小森 克彦²、廣田 良浩³、澤本 直美¹、小椋 厚志¹ (1.明治大理工、2.東京エレクトロン東北㈱、3.東京エレクトロン㈱)

キーワード：低温多結晶シリコン、ラマン分光法