[21p-P17-1~26] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-P17-10] CVD法によるMnO_x拡散バリア層の形成に伴うポーラスSiOCHへの
Mn拡散

〇小出 紘之¹、王 昊¹、安藤 大輔¹、須藤 祐司¹、小池 淳一¹ (1.東北大工)

キーワード：拡散バリア、CVD-Mn、ポーラスlow-k