2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-P17-1~26] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P17 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[21p-P17-10] CVD法によるMnOx拡散バリア層の形成に伴うポーラスSiOCHへの
Mn拡散

小出 紘之1、王 昊1、安藤 大輔1、須藤 祐司1、小池 淳一1 (1.東北大工)

キーワード:拡散バリア、CVD-Mn、ポーラスlow-k