[22a-W611-1~14] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[22a-W611-2] プラズマ支援反応性スパッタリングを用いたアモルファスIGZO薄膜トランジスタの低温形成

節原 裕一¹、中田 慶太郎¹、佐竹 義且¹、〇竹中 弘祐¹、内田 儀一郎¹、江部 明憲² (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)

キーワード：IGZO、スパッタリング