Yuan Tu

発表者・著者、共著者

2017年9月8日(金) 09:15 〜 12:00 C21 (C21)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[8a-C21-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

09:45 〜 10:00

▼ [8a-C21-3] Effect of carbon on boron clustering and diffusion in silicon studied by atom probe tomography

〇(D)Yuan Tu¹、Yasuo Shimizu¹、Masao Inoue²、Yorinobu Kunimune³、Yasuhiro Shimada³、Toshiharu Katayama³、Takashi Ide³、Koji Inoue¹、Yasuyoshi Nagai¹ (1.IMR, Tohoku Univ.、2.Renesas Electronics Corp.、3.Renesas Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.)

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