14:45 〜 15:00 [6p-C21-5] ミニマルCVD装置を用いたシリコン薄膜成長における基板回転の効果 松尾 美弥1、〇室井 光子1、李 寧1、羽深 等1、三ケ原 孝則2,3、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)