1:45 PM - 2:00 PM
△ [5p-C11-1] Improved bias stability atomic-layer-deposition Al2O3 films by crystallizing high-temperature annealing
Keywords:ALD, Al2O3, anneal
結晶化高温アニールによる原子層堆積(atomic layer deposition、ALD)法により形成した Al2O3膜のフラットバンド電圧変動の低減が観測された。この結晶化とVfb変動との相関およびそのリーク電流に及ぼす影響を含め、高温アニールによるVfb変動低減効果を報告する。