The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.8 Compound and power electron devices and process technology

[5p-C17-1~17] 13.8 Compound and power electron devices and process technology

Tue. Sep 5, 2017 1:45 PM - 6:15 PM C17 (Training Room 2)

Masashi Kato(NITech), Taketomo Sato(Hokkaido Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[5p-C17-15] Characteristics of Schottky Barrier Junction and Surface Photovoltage in n-type GaN

Masato Ohmori1, Shinji Yamada1,2, Hideki Sakurai1,2, Yamato Osada2, Ryuichiro Kamimura2, Tetsu Kachi1 (1.Nagoya Univ. IMaSS, 2.ULVAC ISET)

Keywords:GaN, Schottky barrier junction

GaNはエッチングや熱処理、X線照射などによって表面状態が強く影響を受け、ショットキー接合特性やMOS特性を大きく変化させる。そのため、GaN表面状態と種々の特性変化との関係性を詳しく解明し、その原因を究明していくことが重要となる。本発表では、ドライエッチングにより表面ダメージが導入された試料を用いて表面光起電力効果を観測し、ショットキー接合特性との関連性を調べた結果を報告する。