2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2017年9月5日(火) 13:15 〜 17:45 S42 (第2会議室)

山口 徹(NTT)、山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

16:00 〜 16:15

[5p-S42-10] 室温ナノインプリントによるハイアスペクト構造作製

岡田 真1 (1.兵県大高度研)

キーワード:ナノインプリント

室温ナノンプリントによってハイアスペクトパターンの作製を試みた。