2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2017年9月5日(火) 13:15 〜 17:45 S42 (第2会議室)

山口 徹(NTT)、山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

15:15 〜 15:30

[5p-S42-8] 電子ビーム露光における加速電圧変調法とドーズ変調法を用いた三次元生態模倣構造の作製

後藤 晃平1、谷口 淳1 (1.東理大基礎工)

キーワード:ナノインプリントモールド、電子ビームリソグラフィ、加速電圧変調

以前本研究室では電子ビームの加速電圧を変化させることで加工深さを制御することができることを明らかにした。本研究では、加速電圧変調法に加えドーズ変調法を組み合わせた新たな三次元構造の作製法を提案する。作製した形状は生態模倣した三次元漏斗形状である。異なる3つの加速電圧と3つのドーズ量により目標の三次元生態模倣構造の作製に成功し、さらにそれをモールドとしUV-NILにより転写パターンを得ることに成功した。