[6a-C21-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

△ [6a-C21-6] 弾道電子照射による還元性薄膜堆積過程のモデリング

〇須田 隆太郎¹、小島 明¹、白樫 淳一¹、越田 信義¹ (1.農工大・院･工)

キーワード：ナノシリコンダイオード、弾道電子、プリンティング堆積

金属または半導体塩溶液を塗布したターゲット基板へ弾道電子を照射すると、当該物質のナノクラスターからなる薄膜がターゲット基板上に堆積する。この結果を基に、熱力学的な核生成理論と反応拡散則を用いた薄膜堆積モデルを提示し、本プリンティング方式における薄膜堆積レートを導出した。解析の結果、本方式の最重要因子は核生成や拡散の過程ではなく、還元を起こす弾道電子の照射量であることを明らかにした。