2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 新デバイス・材料開発のためのナノスケール3次元分析(I)

[6p-C19-1~8] 新デバイス・材料開発のためのナノスケール3次元分析(I)

2017年9月6日(水) 13:45 〜 17:30 C19 (C19)

小山 正人(東芝)、橋詰 富博(日立)

14:45 〜 15:15

[6p-C19-3] 超高次非線形誘電率顕微鏡法を用いた局所DLTS法の開発とMOS界面評価

茅根 慎道1、〇長 康雄1 (1.東北大通研)

キーワード:局所DLTS法

本講演ではSNDM及びSHO-SNDMから始めて,それを発展させた局所DLTS法の原理をまず解説し,更に本手法をSiO2/SiC MOS界面に適用して界面トラップの2次元分布の評価を行った一連の研究成果について解説する.