[6p-C21-1~20] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[6p-C21-16] 裏面アライメント機能付ミニマルマスクレス露光装置の開発

〇吉岡 昌男¹、田中 洋輔¹、入田 亮一¹、吉田 真也¹、梅山 規男^2,3、クンプアン ソマワン^2,3、原 史朗^2,3 (1.ピーエムティー、2.産総研、3.ミニマルファブ推進機構)

キーワード：裏面アライメント、マスクレス、ミニマル

我々は，産総研を中心に開発を進めているミニマルファブ構想によりミニマルマスクレス露光装置を開発したが、ウェハ両面加工に対応するため，ウェハ裏面のアライメントマークに対する露光位置補正が可能な，裏面アライメント機能付きミニマルマスクレス露光装置の開発を行った。