[6p-C21-1~20] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[6p-C21-19] Cleanroom Free Environment Control System for Minimal PLAD (3)

〇Takashi Yajima¹, Masaharu Yasui¹, Sommawan Khumpuang¹, Hitoshi Maekawa¹, Shiro Hara¹ (1.AIST)

Keywords:minimal fab

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。前回までの報告で、前室に供給するクリーンエア流量を圧力変動に応じて制御し、内部の差圧を一定に保つPLADクリーン化システムを提案した。今回、この装置をミニマル装置実機に取り付け、プロセス室と連結させたときの圧力制御方法の検討とウエハ上の清浄度についての評価を行った。