2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[6p-C21-1~20] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年9月6日(水) 13:45 〜 19:00 C21 (C21)

角嶋 邦之(東工大)、曽根 正人(東工大)

18:30 〜 18:45

[6p-C21-19] 局所クリーン化ミニマルPLAD環境コントロールシステム(3)

谷島 孝1、安井 政治1、クンプアン ソマワン1、前川 仁1、原 史朗1 (1.産総研)

キーワード:ミニマルファブ

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。前回までの報告で、前室に供給するクリーンエア流量を圧力変動に応じて制御し、内部の差圧を一定に保つPLADクリーン化システムを提案した。今回、この装置をミニマル装置実機に取り付け、プロセス室と連結させたときの圧力制御方法の検討とウエハ上の清浄度についての評価を行った。