2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[7a-C21-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年9月7日(木) 09:00 〜 12:30 C21 (C21)

野口 隆(琉球大)、佐道 泰造(九大)

10:15 〜 10:30

[7a-C21-6] In situ XRD 及びTEMによるアモルファスシリコンの結晶化過程観察

高石 理一郎1、佐久間 究1、浅野 孝典1、齋藤 真澄1、田中 洋毅1、太期 由貴子2、福嶌 豊2 (1.東芝、2.東芝ナノアナリシス)

キーワード:多結晶シリコン、X線回折、透過電子顕微鏡