2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年9月7日(木) 15:00 〜 19:30 A402 (402+403)

井上 泰志(千葉工大)、大津 康徳(佐賀大)

16:15 〜 16:30

[7p-A402-12] 高圧マルチホロー放電プラズマCVD下流におけるラジカル成膜速度の時間変化

小島 尚1、都甲 将1、田中 和真1、徐 鉉雄1、板垣 奈穂1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九州大学)

キーワード:水素化アモルファスシリコン、太陽電池、プラズマCVD