[7p-C17-1~16] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

△ [7p-C17-4] 異なる酸素源を用いた酸化ガリウムハライド気相成長の比較

〇小西 敬太¹、後藤 健^2,1、富樫 理恵^1,3、村上 尚^1,3、東脇 正高⁴、倉又 朗人²、山腰 茂伸²、Bo Monemar^3,5、熊谷 義直^1,3 (1.東京農工大院工、2.株式会社タムラ、3.東京農工大GIR、4.情通機構、5.リンチョーピン大)

キーワード：ハライド気相成長、酸化ガリウム、熱力学解析

本研究は、ハライド気相成長法を用いた酸化ガリウム(Ga₂O₃)成長時の酸素源としてO₂とH₂Oを用いた場合の熱力学解析と成長膜の比較・評価を行った。