[7p-C18-1~11] ＩＶ族系半導体の製膜と低温結晶化（固相結晶化を中心に）

[7p-C18-10] 触媒成長法を用いたIV族半導体/絶縁膜の低温形成
－ 高性能フレキシブル・エレクトロニクスの創出を目指して －

〇佐道 泰造¹、宮尾 正信¹、角田 功² (1.九大システム情報、2.熊本高専)

キーワード：半導体、金属誘起成長、フレキシブル・エレクトロニクス

IV族半導体の金属誘起成長に与える金属種、電界印加、応力印加、非晶質薄膜のボンド変調等の効果を明らかにし、フレキシブル・エレクトロニクスへの応用を展望する。