2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[7p-S22-1~14] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2017年9月7日(木) 13:30 〜 17:15 S22 (パレスB)

塩島 謙次(福井大)、牧山 剛三(富士通研)

15:00 〜 15:15

[7p-S22-7] 光電気化学(PEC)反応を利用したリセスゲートAlGaN/GaN HEMTの作製

植村 圭佑1、佐藤 威友1、橋詰 保1 (1.北大量集セ)

キーワード:窒化物半導体、電気化学、閾値電圧制御

リセスゲート構造は、AlGaN/GaN-HEMTのノーマリオフ化に有望な構造の1つであるが、低損傷で制御性に優れた加工技術が要請される。この要請に対し、我々は、光電気化学(PEC: Photo-electrochemical)反応を利用したAlGaN層のエッチングを検討してきた。今回は、エッチング面のモホロジ評価と、試作したリセスゲートAlGaN/GaN-HEMTの電気的特性評価を報告する。