一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇伊藤 圭亮1、張 笑逸1、熊崎 祐介1、佐藤 威友1 (1.北大量集セ)
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09:45 〜 10:00
〇松本 悟1、枝元 将彰1、熊崎 祐介1、佐藤 威友1 (1.北大量集センター)
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10:00 〜 10:15
〇(B)浅田 貴斗1、市川 義人1、伊藤 健治2、冨田 一義2、成田 哲生2、加地 徹3、加藤 正史1 (1.名工大、2.豊田中研、3.名大)
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10:15 〜 10:30
〇鐘ヶ江 一孝1、堀田 昌宏2、木本 恒暢2、須田 淳2,3 (1.京大工、2.京大院工、3.名大 未来材料・システム研究所)
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10:45 〜 11:00
〇山田 真嗣1,2、櫻井 秀樹1,2、大森 雅登1、長田 大和2、上村 隆一郎2、堀田 昌宏3、須田 淳1,3、加地 徹1 (1.名大 未来材料・システム研究所、2.アルバック半電研、3.京大院工)
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11:00 〜 11:15
〇堀田 昌宏1、成田 哲生2、加地 徹3、上杉 勉2、須田 淳1 (1.京大院工、2.豊田中研、3.名大)
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11:15 〜 11:30
〇(M1)横田 直茂1、赤澤 正道1 (1.北大量子集積エレ研)
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11:30 〜 11:45
〇岡田 浩1、関口 寛人1、上月 誠也1、山根 啓輔1、若原 昭浩1 (1.豊橋技科大)
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