2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[14p-P3-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年3月14日(火) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[14p-P3-16] 積層メタル技術を用いたMEMS慣性センサにおける粘性定数の検討

小西 敏文1、山根 大輔2,4、佐布 晃昭1、曽根 正人2,4、年吉 洋3,4、益 一哉2,4、町田 克之1,2,4 (1.NTT-AT、2.東工大、3.東大、4.JST-CREST)

キーワード:MEMS、慣性センサ、粘性定数

我々は、積層メタル技術を用いた静電容量型MEMS慣性センサの研究開発を行っている。センサの高性能化を実現するためには、機械ノイズの設計パラメータを明確にする必要がある。今回、センサの構造パラメータと粘性定数の関係について検討を行った。パラメータを変えたデバイスを実際に作製し、各デバイスの周波数特性から粘性定数を求めた。測定結果から、センサの構造パラメータを用いた新たな粘性定数モデル式を提案した。