2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17a-E206-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年3月17日(金) 09:00 〜 12:45 E206 (E206)

角嶋 邦之(東工大)、岡田 竜弥(琉球大)

10:00 〜 10:15

[17a-E206-5] 金属/半導体界面における仕事関数の再定義とフェルミレベルピンニングの再考

西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)

キーワード:仕事関数、ゲルマニウム、フェルミレベルピンニング