一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
13:45 〜 14:00
〇中込 真二1、菊地 賢太郎1、矢野 浩司2、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工、2.山梨大工)
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14:00 〜 14:15
〇林 家弘1、ワン マンホイ1、佐藤 万由子2、竹川 直2、小西 敬太2、村上 尚2、熊谷 義直2、東脇 正高1 (1.情通機構、2.東京農工大院工)
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14:15 〜 14:30
鈴木 叡輝1、西田 水輝1、〇喜多 浩之1 (1.東大院工)
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14:30 〜 14:45
〇金子 健太郎1、竹本 柊1、韓 欣一1、高橋 勲2、杉本 雅裕2、四戸 孝2、藤田 静雄1 (1.京大院工、2.(株)FLOSFIA)
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15:00 〜 15:15
〇梁 剣波1、桝谷 聡士2、藤居 大樹3、金 聖祐3、嘉数 誠2、重川 直輝1 (1.大阪市大院工、2.佐賀大院工、3.アダマンド並木精密宝石株式会社)
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15:15 〜 15:30
〇大石 敏之1、鴨川 拓弥1、嘉数 誠1 (1.佐賀大学理工学部)
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15:30 〜 15:45
〇(M2)青沼 遼介1、木瀬 信和1、宮本 恭幸1 (1.東工大工)
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15:45 〜 16:00
〇井上 毅哉1、星井 拓也1、角嶋 邦之1、若林 整1、岩井 洋1、筒井 一生1 (1.東工大)
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