2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20a-234A-1~11] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:00 234A (234-1)

安田 隆(石巻専修大)

10:00 〜 10:15

[20a-234A-5] プラズマ支援ミストCVD法による酸化亜鉛薄膜の低温形成と評価

城戸 智孝1、御厨 丈輝1、杉野 玲奈1、西 康孝2、中積 誠2、岩堀 恒一郎2、谷田部 然治1,3、浪平 隆男1,4、中村 有水1,5,6 (1.熊大自然科学、2.株ニコン、3.熊大院先導機構、4.熊大パルス、5.熊大院先端科学、6.熊大有機薄膜)

キーワード:透明導電膜