2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » ナノエレクトロニクス材料・デバイス研究開発を目指した先端イオン顕微鏡技術

[20p-233-1~10] ナノエレクトロニクス材料・デバイス研究開発を目指した先端イオン顕微鏡技術

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:00 233 (233)

米谷 玲皇(東大)、小川 真一(産総研)

16:15 〜 16:45

[20p-233-7] Energy Analysis of H3+ Ion Beam Emitted from Gas field ionization source

Shinichi Matsubara1、Hiroyasu Shichi1、Tomihiro Hashizume1、Anto Yasaka2 (1.Hitachi, Ltd.、2.Hitachi High-Tech Science Co.)

キーワード:Ion beam, Gas field ion source, GFIS