The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[20p-331-1~13] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Thu. Sep 20, 2018 1:45 PM - 5:15 PM 331 (International Conference Room)

Kenji Shiojima(Univ. of Fukui), Masashi Kato(NITech)

2:15 PM - 2:30 PM

[20p-331-3] Characterization of a Shockley-Read-Hall lifetime in homoepitaxial p-GaN
based on the analysis of the recombination current in GaN p-n junction diodes

Takuya Maeda1, Tetsuo Narita2, Hiroyuki Ueda2, Masakazu Kanechika2, Tsutomu Uesugi2, Tetsu Kachi3, Tsunenobu Kimoto1, Masahiro Horita1, Jun Suda1,3,4 (1.Kyoto Univ., 2.TOYOTA Central R&D Labs., 3.Nagoya Univ. IMaSS, 4.Nagoya Univ.)

Keywords:Shockley-Read-Hall (SRH) lifetime, p-GaN, Recombination current

本研究では,p-n+接合ダイオードを作製し,その順方向I-V特性の解析により,ホモエピタキシャル成長p-GaNにおけるSRH寿命の評価を行った.実験値の解析からSRH寿命は91 psと求まった.これは,n-GaNにおける報告(12 ns)よりも桁違いに短く,p-GaNにおいては再結合中心密度が多い,あるいは,p-GaN中の再結合中心の捕獲断面積が大きいことを示唆していると考えられる.