[21a-145-1~9] 13.3 絶縁膜技術

[21a-145-7] HfO₂薄膜における熱処理昇降温速度の強誘電性への影響

〇森 優樹¹、西村 知紀¹、矢嶋 赳彬¹、右田 真司²、鳥海 明¹ (1.東大院工、2.産総研)

キーワード：HfO2