2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[21p-135-1~16] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2018年9月21日(金) 13:00 〜 17:15 135 (135)

上野 智雄(農工大)、嵯峨 幸一郎(ソニー)

16:00 〜 16:15

[21p-135-12] 有機アンモニウム塩の電解による半導体洗浄用アルカリ液の開発(第2報)
-有機カチオン種による次亜塩素酸イオン分解反応メカニズムの解明-

金井 隆宏1、長嶋 裕次1、平林 英明2、平川 雅章3 (1.芝浦メカトロニクス(株)、2.東芝マテリアル(株)、3.(株)東芝生産技術センター)

キーワード:半導体