Charith Jayanada Koswaththage

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発表者・著者、共著者

2018年3月17日(土) 16:00 〜 17:30 C101 (52-101)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17p-C101-1~6] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

16:15 〜 16:30

[17p-C101-2] Capping Effect of Crystallized InSb film on Glass

〇(D)Charith Jayanada Koswaththage¹、Tatsuyuki Higashizako¹、Tatsuya Okada¹、Takashi Noguchi¹、Hirosato Tanaka²、Mamoru Furuta² (1.Univ. of the Ryukyus、2.Kochi Uni. of Tech.)

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