14:30 〜 14:45 △ [20p-C202-4] 酸化プロセスによる自己保護膜を持った極薄SnS層の作製 〇東垂水 直樹1、川元 颯巳1、上野 啓司2、長汐 晃輔1,3 (1.東大工、2.埼玉大、3.JST-さきがけ)