2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

一般セッション(口頭講演)

[19a-A404-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:45 A404 (54-404)

佐藤 正健(産総研)、中村 大輔(九大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19p-A404-1~19] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月19日(月) 13:15 〜 18:45 A404 (54-404)

吉田 岳人(阿南高専)、寺川 光洋(慶大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(ポスター講演)

[20a-P1-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月20日(火) 09:30 〜 11:30 P1 (ベルサール高田馬場)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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