2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » イオンビームと表面分析:二次イオン質量分析法(SIMS)の最近の進歩と有機分析への応用

[18p-C201-1~7] イオンビームと表面分析:二次イオン質量分析法(SIMS)の最近の進歩と有機分析への応用

2018年3月18日(日) 13:45 〜 17:30 C201 (52-201)

中村 健(産総研)、後藤 康仁(京大)

16:00 〜 16:30

[18p-C201-5] 分子クラスターイオンビーム照射による有機分子の脱離イオン化

盛谷 浩右1 (1.兵庫県立大工)

キーワード:二次イオン質量分析、クラスターイオンビーム、脱離イオン化

サイズを選別した水やメタノール等の分子クラスターイオンビームを有機分子薄膜に照射し、放出された二次イオンを質量分析した。水など極性分子クラスターの照射による有機分子のイオン化には、クラスター衝突時におきるプロトン付加反応により、二次イオン強度が増強することがわかった。講演では分子クラスター衝突時におきる表面化学反応のメカニズムについて議論する。